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大日本科研（DNK）掩膜臺/基板臺
產(chǎn)品型號：MA-6131ML
產(chǎn)品品牌：DNK大日本科研
產(chǎn)品介紹：

大日本科研（DNK）是一家日本的科技公司，其正式名稱為株式會社大日本科研（Japan Science Engineering Co., Ltd.）。以下是關(guān)于該公司的詳細介紹：
詳細介紹

大日本科研（DNK）是一家日本的科技公司，其正式名稱為株式會社大日本科研（Japan Science Engineering Co., Ltd.）。以下是關(guān)于該公司的詳細介紹：

  • 基本信息：公司成立于 1967 年 2 月 3 日，總部位于日本京都市右京區(qū)寺戸町洼 1 番地，法人代表為代表取締役社長岡本浩志，資本金為 5000 萬日元，截止到 2025 年 6 月，公司員工數(shù)為 133 名。
  • 業(yè)務(wù)范圍：主要從事精密機械以及理化學(xué)儀器、測量儀器、光學(xué)儀器的設(shè)計、制造和銷售。此外，公司還專注于光機電一體化設(shè)備和液晶面板制造設(shè)備，在超凈環(huán)境設(shè)備，尤其是清洗設(shè)備領(lǐng)域表現(xiàn)**，占據(jù)該市場約 50% 的份額。
  • 公司架構(gòu)：董事會成員包括代表取締役社長岡本浩志、董事杉原正規(guī)和董事島田崇司。


通過掩膜與基板的垂直放置,來減少翹曲的直立型近接曝光機。對應(yīng)水平搬送型前后處理裝置的聯(lián)機。

主要特長

  • 直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構(gòu)造簡單，安定性高。
  • 采用新型光學(xué)系統(tǒng),使影響圖形轉(zhuǎn)印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現(xiàn)更高精度的圖形轉(zhuǎn)印。
  • 完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準。
  • 為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。(選購項)
  • *大基板尺寸為1,200mm×1,400mm。通過獨自的光學(xué)系統(tǒng)實現(xiàn)了均勻的一次性曝光。
  • 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
G3～G5基板用直立型近接曝光裝置

主要規(guī)格

MA-6701ML MA-6801ML MA-6131ML
基板尺寸 550 x 650mm 650 x 750mm 1100 x 1300mm
掩膜尺寸 620 x 720 x t8.0mm 700 x 800 x t8.0mm 1200 x 1400 x t4.8mm
對位 非接觸預(yù)對位～自動對位
間隙 擁有傳感性能
光源 超高壓水銀燈：8kW 超高壓水銀燈：8kW 超高壓水銀燈：18kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W3500 x D2720 x H2700 mm W4150 x D3200 x H2900 mm W11300 x D7060 x H3350 mm
本體重量 3500kg 3800kg 12700kg
光源重量 800kg 1150kg 4200kg
選購項 掩膜冷卻、基板臺溫度調(diào)節(jié)、溫控機房、特殊對位照明
用途 觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等