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大日本科研（DNK）是一家日本的科技公司，其正式名稱為株式會社大日本科研（Japan Science Engineering Co., Ltd.）。以下是關于該公司的詳細介紹：

• 基本信息：公司成立于 1967 年 2 月 3 日，總部位于日本京都市右京區(qū)寺戸町洼 1 番地，法人代表為代表取締役社長岡本浩志，資本金為 5000 萬日元，截止到 2025 年 6 月，公司員工數(shù)為 133 名。
• 業(yè)務范圍：主要從事精密機械以及理化學儀器、測量儀器、光學儀器的設計、制造和銷售。此外，公司還專注于光機電一體化設備和液晶面板制造設備，在超凈環(huán)境設備，尤其是清洗設備領域表現(xiàn)**，占據(jù)該市場約 50% 的份額。
• 公司架構：董事會成員包括代表取締役社長岡本浩志、董事杉原正規(guī)和董事島田崇司。

通過掩膜與基板的垂直放置,來減少翹曲的直立型近接曝光機。對應水平搬送型前后處理裝置的聯(lián)機。

主要特長

• 直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構造簡單，安定性高。
• 采用新型光學系統(tǒng),使影響圖形轉印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現(xiàn)更高精度的圖形轉印。
• 完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準。
• 為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。(選購項)
• *大基板尺寸為1,200mm×1,400mm。通過獨自的光學系統(tǒng)實現(xiàn)了均勻的一次性曝光。
• 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫

主要規(guī)格