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大日本科研(DNK)基板用近接曝光裝置
產(chǎn)品型號:MA-5701ML
產(chǎn)品品牌:DNK大日本科研
產(chǎn)品介紹:

大日本科研(DNK)是一家日本的科技公司,其正式名稱為株式會社大日本科研(Japan Science Engineering Co., Ltd.)。以下是關于該公司的詳細介紹

詳細介紹

大日本科研(DNK)是一家日本的科技公司,其正式名稱為株式會社大日本科研(Japan Science Engineering Co., Ltd.)。以下是關于該公司的詳細介紹:

  • 基本信息:公司成立于 1967 年 2 月 3 日,總部位于日本京都市右京區(qū)寺戸町洼 1 番地,法人代表為代表取締役社長岡本浩志,資本金為 5000 萬日元,截止到 2025 年 6 月,公司員工數(shù)為 133 名。
  • 業(yè)務范圍:主要從事精密機械以及理化學儀器、測量儀器、光學儀器的設計、制造和銷售。此外,公司還專注于光機電一體化設備和液晶面板制造設備,在超凈環(huán)境設備,尤其是清洗設備領域表現(xiàn)**,占據(jù)該市場約 50% 的份額。
  • 公司架構:董事會成員包括代表取締役社長岡本浩志、董事杉原正規(guī)和董事島田崇司。
裝載有邊緣傳感器和間隙傳感器的非接觸式近接曝光裝置。*適合觸摸屏及有機EL等的量產(chǎn)。

主要特長

  • 能夠進行節(jié)拍時間約20秒(標準規(guī)格機,對位容許值設定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。
  • 利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設定掩膜與基板間的近接間隙 。
  • 可配置嚴格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調(diào)控系統(tǒng)。
  • 可選擇配置基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng),以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(選購項)
  • 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
FPD用曝光裝置

主要規(guī)格

  MA-5501ML MA-5701ML MA-5111ML
基板尺寸 370 x 470mm 550 x 650mm 730 x 920mm
對位 非接觸預對位~自動對位
間隙 擁有傳感性能
光源 超高壓水銀燈:2kW or 3.5kW or 5kW 超高壓水銀燈:10kW 超高壓水銀燈:18kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W2400 x D2480 x H2290mm
(另有控制箱、局部空調(diào)、冷水機)
W3600 x D3870 x H2500mm
(另有控制箱、局部空調(diào)、冷水機)
W7450 x D5000 x H3600mm
(另有控制箱、局部空調(diào)、冷水機)
本體重量 1500kg 1900kg 2000kg
光源重量 500kg 1100kg 3500kg
無塵機房重量 250kg 300kg
選購項 掩膜冷卻、基板臺溫度調(diào)節(jié)、溫控機房、特殊對位照明
用途 觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C-STN、電子紙等

膠片用曝光裝置