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DNK大日本科研膠片用曝光裝置
產(chǎn)品型號：光學(xué)膠片(3D等)
產(chǎn)品品牌：DNK大日本科研
產(chǎn)品介紹：

適合觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機EL用掩膜等膠片形狀基材的曝光機。對應(yīng)Roll to Roll,可實現(xiàn)軟性、薄型、輕量基材的大量生產(chǎn)。
詳細(xì)介紹

主要特長

  • DNK大日本科研除近接曝光外，還可對應(yīng)接觸曝光(軟接觸和硬接觸)
  • 可對應(yīng)幅度為500mm以上的大型膠片。
  • 采用獨自的光學(xué)系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一燈式雙面曝光。
  • 裝載有自動對位功能。通過特殊照明實現(xiàn)透明材料的對位。
  • 除Roll to Roll外可設(shè)計枚葉式搬送等機構(gòu),根據(jù)客戶的需要構(gòu)成裝置。
  • 可選擇基板臺溫度控制及掩膜冷卻規(guī)格等。(選購項)

主要用途

  • 觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機EL、鋰離子電池、太陽能電池、印刷線路板
膠片用曝光裝置