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DNK大日本科研小批量生產(chǎn)直描曝光
產(chǎn)品型號(hào)：MX-1201E
產(chǎn)品品牌：DNK大日本科研
產(chǎn)品介紹：

大日本科研（DNK）是一家日本的科技公司，其正式名稱為株式會(huì)社大日本科研（Japan Science Engineering Co., Ltd.）。以下是關(guān)于該公司的詳細(xì)介紹：
詳細(xì)介紹

大日本科研（DNK）是一家日本的科技公司，其正式名稱為株式會(huì)社大日本科研（Japan Science Engineering Co., Ltd.）。以下是關(guān)于該公司的詳細(xì)介紹：

  • 基本信息：公司成立于 1967 年 2 月 3 日，總部位于日本京都市右京區(qū)寺戸町洼 1 番地，法人代表為代表取締役社長岡本浩志，資本金為 5000 萬日元，截止到 2025 年 6 月，公司員工數(shù)為 133 名。
  • 業(yè)務(wù)范圍：主要從事精密機(jī)械以及理化學(xué)儀器、測(cè)量儀器、光學(xué)儀器的設(shè)計(jì)、制造和銷售。此外，公司還專注于光機(jī)電一體化設(shè)備和液晶面板制造設(shè)備，在超凈環(huán)境設(shè)備，尤其是清洗設(shè)備領(lǐng)域表現(xiàn)**，占據(jù)該市場約 50% 的份額。
  • 公司架構(gòu)：董事會(huì)成員包括代表取締役社長岡本浩志、董事杉原正規(guī)和董事島田崇司。

利用獨(dú)自的高速描畫「Point Array方式」技術(shù)直接描畫圖形的裝置。

主要特長

  • 能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。
  • 能夠?qū)?yīng)半導(dǎo)體、電子零件、屏幕遮罩、金屬面具、**PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。
  • 由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應(yīng)時(shí)間。
  • 此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應(yīng)的裝置構(gòu)造。
 無掩膜曝光技術(shù)
無掩膜曝光裝置

主要規(guī)格

型式 MX-1201 MX-1201E MX-1205
單引擎 雙引擎
*小線幅 (※1) [μm] 5 3 2 1
數(shù)據(jù)分辨率 [μm] 0.488 0.25 0.1 0.05
*大基板尺寸 [mm] 200 x 200 200 x 200 100 x 100
有效曝光范圍 [mm] 200 x 200 200 x 200 100 x 100
激光主波長 [nm] 405 375 405 + 375 375 405 375 375
曝光掃描速度 [mm/s] 43.94 22.5 9 4.5
節(jié)拍時(shí)間 [s,min] 180 [s] 145 [s] 320 [s] 16 [min] 27 [min]
*大曝光量 [mJ/c㎡] 245 70 245 + 70 70 460 135 50 100