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DNK大日本科研
大日本科研(DNK)直接描畫圖形的裝置
產(chǎn)品型號:MX-1201
產(chǎn)品品牌:DNK大日本科研
產(chǎn)品介紹:
大日本科研(DNK)是一家日本的科技公司,其正式名稱為株式會社大日本科研(Japan Science Engineering Co., Ltd.)。以下是關(guān)于該公司的詳細(xì)介紹:
詳細(xì)介紹
大日本科研(DNK)是一家日本的科技公司,其正式名稱為株式會社大日本科研(Japan Science Engineering Co., Ltd.)。以下是關(guān)于該公司的詳細(xì)介紹:
基本信息
:公司成立于 1967 年 2 月 3 日,總部位于日本京都市右京區(qū)寺戸町洼 1 番地,法人代表為代表取締役社長岡本浩志,資本金為 5000 萬日元,截止到 2025 年 6 月,公司員工數(shù)為 133 名。
業(yè)務(wù)范圍
:主要從事精密機(jī)械以及理化學(xué)儀器、測量儀器、光學(xué)儀器的設(shè)計、制造和銷售。此外,公司還專注于光機(jī)電一體化設(shè)備和液晶面板制造設(shè)備,在超凈環(huán)境設(shè)備,尤其是清洗設(shè)備領(lǐng)域表現(xiàn)**,占據(jù)該市場約 50% 的份額。
公司架構(gòu)
:董事會成員包括代表取締役社長岡本浩志、董事杉原正規(guī)和董事島田崇司。
利用獨自的高速描畫「Point Array方式」技術(shù)直接描畫圖形的裝置。
主要特長
能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。
能夠?qū)?yīng)半導(dǎo)體、電子零件、屏幕遮罩、金屬面具、**PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。
由于在光刻工藝中不需要掩膜,因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應(yīng)時間。
此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應(yīng)的裝置構(gòu)造。
無掩膜曝光技術(shù)
主要規(guī)格
型式
MX-1201
MX-1201E
MX-1205
單引擎
雙引擎
*小線幅 (※1)
[μm]
5
3
2
1
數(shù)據(jù)分辨率
[μm]
0.488
0.25
0.1
0.05
*大基板尺寸
[mm]
200 x 200
200 x 200
100 x 100
有效曝光范圍
[mm]
200 x 200
200 x 200
100 x 100
激光主波長
[nm]
405
375
405 + 375
375
405
375
375
曝光掃描速度
[mm/s]
43.94
22.5
9
4.5
節(jié)拍時間
[s,min]
180 [s]
145 [s]
320 [s]
16 [min]
27 [min]
*大曝光量
[mJ/c㎡]
245
70
245 + 70
70
460
135
50
100
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