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大日本科研（DNK)測(cè)量?jī)x器、光學(xué)儀器
產(chǎn)品型號(hào)：MA-4301M
產(chǎn)品品牌：DNK大日本科研
產(chǎn)品介紹：

大日本科研（DNK）是一家日本的科技公司，其正式名稱為株式會(huì)社大日本科研（Japan Science Engineering Co., Ltd.）。以下是關(guān)于該公司的詳細(xì)介紹：

詳細(xì)介紹

大日本科研（DNK）是一家日本的科技公司，其正式名稱為株式會(huì)社大日本科研（Japan Science Engineering Co., Ltd.）。以下是關(guān)于該公司的詳細(xì)介紹：

  • 基本信息：公司成立于 1967 年 2 月 3 日，總部位于日本京都市右京區(qū)寺戸町洼 1 番地，法人代表為代表取締役社長(zhǎng)岡本浩志，資本金為 5000 萬日元，截止到 2025 年 6 月，公司員工數(shù)為 133 名。
  • 業(yè)務(wù)范圍：主要從事精密機(jī)械以及理化學(xué)儀器、測(cè)量?jī)x器、光學(xué)儀器的設(shè)計(jì)、制造和銷售。此外，公司還專注于光機(jī)電一體化設(shè)備和液晶面板制造設(shè)備，在超凈環(huán)境設(shè)備，尤其是清洗設(shè)備領(lǐng)域表現(xiàn)**，占據(jù)該市場(chǎng)約 50% 的份額。
  • 公司架構(gòu)：董事會(huì)成員包括代表取締役社長(zhǎng)岡本浩志、董事杉原正規(guī)和董事島田崇司。
主要特長(zhǎng)

  • 利用本公司**的高速圖像處理技術(shù), 實(shí)現(xiàn)了Wafer與掩膜的高精度對(duì)位。
  • 裝載機(jī)側(cè)和卸載機(jī)側(cè)*多可設(shè)置兩個(gè)籃具（選購(gòu)項(xiàng)）。
  • 備有冷卻機(jī)構(gòu)，可進(jìn)行基板臺(tái)與掩膜的溫度管理（選購(gòu)項(xiàng)）。
  • 搭載本公司**的鏡面光學(xué)系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實(shí)現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。
  • 搭載非接觸預(yù)對(duì)位系統(tǒng)（PREALIGNER）。從而實(shí)現(xiàn)了高精度進(jìn)給且保證基板不受任何損傷。
  • 搭載有自動(dòng)掩膜更換機(jī)。并可支持掩膜存放庫(kù)。
?200mm 兼容曝光機(jī)

主要規(guī)格

  MA-4301M
Wafer尺寸 材料 Si,Glass
尺寸 Φ6″ x t0.625 mm(6″ = Φ150 mm) +/- 0.2 mm
Φ8″ x t0.725 mm(8″ = Φ200 mm) +/- 0.2 mm
節(jié)拍時(shí)間 Proximity exposure：19 s/wafer
(One parallelism compensation per lot)
對(duì)位精度 自動(dòng)對(duì)位：+/- 1 μm
(Peak search)
間隙 1 to 200 μm Servo motor
Setup resolution：1 μm
曝光方式 Soft contact exposure
Hard contact exposure
Proximity exposure
尺寸?重量 本體尺寸：W 1800 x D 1650 x H 2015 mm
總重量(including lamp house)：1400 kg