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SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)無框架分光鏡鏡架
產(chǎn)品型號：GBSMU-49-VIS
產(chǎn)品品牌：SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)
產(chǎn)品介紹：

沒有反射鏡支架的邊框，支架正面全部成為反射鏡。 由于基板為精密拋光的熱膨脹系數(shù)小的陶瓷（或是合成石英），能夠得到極高的面型精度和溫度穩(wěn)定性。 備有適用YAG激光各種波長譜區(qū)的系列產(chǎn)品。
詳細(xì)介紹
SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)無框架分光鏡鏡架 / GBSMU-49-VIS

沒有反射鏡支架的邊框，支架正面全部成為反射鏡。
由于基板為精密拋光的熱膨脹系數(shù)小的陶瓷（或是合成石英），能夠得到極高的面型精度和溫度穩(wěn)定性。
備有適用YAG激光各種波長譜區(qū)的系列產(chǎn)品。

詳情
反射波面不會隨溫度變化而變形，*適合于精密的光學(xué)系統(tǒng)。
這個產(chǎn)品保證鍍膜后(支架狀態(tài))的面型精度。
具有高激光損傷閾值，強(qiáng)激光也可使用。

注意
產(chǎn)品中不附有保證面型精度數(shù)據(jù)。需要保證面型精度數(shù)據(jù)文件時，需要額外文件制作費(fèi)用。
激光等的直線偏振光射入分光鏡時，反射率或透過率隨偏振方位發(fā)生變化。需要嚴(yán)格地調(diào)整分束比為1:1時，請45度傾斜偏振光方位或使用圓偏光。
多層電解質(zhì)膜的反射率波長特性隨入射光束的偏光狀態(tài)變化。P偏光與S偏光相比，反射率變低，反射帶譜區(qū)變窄。
技術(shù)指標(biāo)的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。
用于45°以外的入射角度時，反射率有可能降低。
在設(shè)計波長以外的波長譜區(qū)使用時，反射率有可能降低。