測量項目：[膜厚、折射率n、消光系數(shù)k]. 測量原理：[分光干涉法]. 測量對象：[光刻膠、SiO2、Si3N4等]. 測量范圍：[1nm~92μm]....
● 非接觸、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)
● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式
● 高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波段內(nèi)的**反射率，可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
● 單點對焦加量測在1秒內(nèi)完成
● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）
● 獨立測試頭對應(yīng)各種inline定制化需求
● *小對應(yīng)spot約3μm
● ****可針對超薄膜解析nk
量測項目
● **反射率分析
● 多層膜解析（50層）
● 光學(xué)常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內(nèi)部反射的影響，無法正確測量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內(nèi)部反射，即使是透明基板也可以實現(xiàn)高精度測量。此外，對具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品，也可完全不受其影響，單獨測量上面的膜。
應(yīng)用范圍
● 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體：硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介電常數(shù)材料
● FPD：LCD、TFT、OLED（有機EL）
● 資料儲存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料
● 光學(xué)材料：濾光片、抗反射膜
● 平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED
● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等
● 其它：建筑用材料、膠水、DLC等