MA-1200 MA-1300 MA-1400 基板尺寸 *大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ *大 ?300 *大 400 x 400mm 光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW 超高壓水銀燈 ：1kW 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW 外觀尺寸及重量 本體尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1675 x D1400 x H1883 mm W1440 x D1590 x H1882 mm 本體重量 400kg 700kg(包含無塵機房) 400kg(包含無塵機房) 光源重量 － 250kg 250kg 選購項 無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應(yīng)破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。
※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽
NDK大日本科研實驗?研究用曝光裝置主要特長 非常適用于實驗?研發(fā)之用途。 緊湊型設(shè)計(600×600mm)，可在桌面上安裝使用。 搭載UV LED爆光燈房標準（有效曝光范圍φ4″）。 接觸式曝光模式（可支持其他的曝光模式，為選購項）。 完全手動操作，價格公道合理。 NDK大日本科研實驗?研究用曝光裝置主要規(guī)格 DA-1000 Wafer Size ?2″ , ?3″ and max. ?4″ Mask Size 5″ x 5″ Alignment Scope 8 times Lamp House UVLED (365 nm or 405 nm) Illumination Intensity Max. 14 mW /? (365 nm) or Max. 20 mW /? (405 nm)