大塚電子株式會(huì)社主要經(jīng)營(yíng)范圍:光電技術(shù)的研發(fā)，光電系統(tǒng)集成產(chǎn)品、工業(yè)測(cè)定和分析設(shè)備、儀器儀表及相關(guān)零部件的批發(fā)、進(jìn)出口等。大豕為人類更健康而不斷**， 懷著「多樣性」「**性」「世界化」的愿景，不斷的推出**產(chǎn)品，面向全球開展業(yè)務(wù)，為社會(huì)作出貢獻(xiàn)。以高速·高精度·高可靠性且有市場(chǎng)實(shí)際應(yīng)用的分光器MCPD系列為基礎(chǔ)， 在中國(guó)的顯示器 市場(chǎng)上有著20年以上銷售實(shí)例， 為許多廠家在研究開發(fā)、生產(chǎn)部門所使用。并且在光源·照明 相關(guān)方面，對(duì)***研究機(jī)構(gòu)、各個(gè)廠家的銷售量在逐步擴(kuò)大。

.分光光譜儀:高感度分光光譜儀 紫外/可見/近紅外光分光光譜儀應(yīng)用范圍:
發(fā)光光譜分析儀系統(tǒng)
反射光譜分析儀系統(tǒng)
穿透、吸收光譜分析儀系統(tǒng)
色度光譜分析儀系統(tǒng)
光源光譜分析儀系統(tǒng)(色度/輝度/照度)
膜厚光譜分析儀系統(tǒng)
董光光譜分析儀系統(tǒng)
雙折射相位差光譜分析儀
微光學(xué)元件光譜分析儀系統(tǒng)

產(chǎn)品規(guī)格:
分光光譜儀-2285C 分光光譜儀-3095C 分光光譜儀-3683C 分光光譜儀-311C 分光光譜儀-916C波長(zhǎng)范圍 220~850nm 300~950nm 360~830nm 360~1100nm 900~1600nm

分光系統(tǒng) 平面場(chǎng)型
檢測(cè)單位 電子冷卻型CCD圖像傳感器 電子冷卻型InGaAs圖像傳感器
512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch理論分辨率 1.4nm 0.7nm 1.4nm 0.7nm 1.0nm 0.5nm 1.6nm 0.8nm 1.9nm光纖規(guī)格 石英光纖、口徑φ12mm、長(zhǎng)度約2m 摻鍺石英光纖,長(zhǎng)度約2m
量測(cè)功能 發(fā)光光譜量測(cè)、反射率光譜量測(cè)、穿透率光譜量測(cè)、吸收光譜量測(cè)尺寸重量 110(W)x230(H)x282(D)mm，約6kg

產(chǎn)品特點(diǎn):
"高動(dòng)態(tài)范圍(HDR)光譜儀可量測(cè)透明、低對(duì)比、高反射率樣品，*適用于量測(cè)光通量*有效抑制雜散光，*適合UV光譜分析。相較于本公司歷代分光光度計(jì)，雜光率僅約五分之一!*曝光時(shí)間5msec~65sec*。適用于量測(cè)微弱光源以及架設(shè)于生產(chǎn)線上即時(shí)檢測(cè)等多元應(yīng)用。*經(jīng)過(guò)特殊設(shè)計(jì)纏繞的光纖，展現(xiàn)穩(wěn)定的重復(fù)再現(xiàn)性量測(cè)。*小巧輕量化的設(shè)計(jì)，相較于歷代機(jī)型，容積比約減少60%。

二.紫外/可見/近紅外光分光光譜儀產(chǎn)品規(guī)格
型號(hào)規(guī)格28C
311C
3593C
波長(zhǎng)范圍 220~800 nm 330~1100 nm 350~930 nm分光元件 全息成像光柵、F=3、f=135mm波長(zhǎng)精度*1 ±0.3 nm>±0.5 nm ±0.3 nm感光元件*2 電子制冷型CCD影像感測(cè)器
512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch解析能力 1.2nm 0.6nm 1.7nm 0.9nm 1.3nm 0.6nm曝光時(shí)間*3 20msec~20sec
光纖規(guī)格 石英制光纖、固定口徑φ12mm、長(zhǎng)約1m通訊介面 USB Or LAN
尺寸重量 300(W)x170(H)x350(D)mm、約10kg
*1 波長(zhǎng)校正用光源對(duì)汞物理輝線之確認(rèn)值
*2 可選擇512ch或1024ch
產(chǎn)品特點(diǎn):*3 感度設(shè)定為Normal時(shí)

*多通道分光光譜儀高速量測(cè)紫外光(UV)、可見光(VIS)、近紅外光(NIR)光譜。
功能豐富的專用軟體，可進(jìn)行顯微分光、發(fā)光光源、表面反射率、穿透率、色度、膜厚等光譜量測(cè)。
*采用更專業(yè)的CCD影像感測(cè)器，感光能力較MCPD-3700約高出200~700倍，在微弱光領(lǐng)域亦實(shí)現(xiàn)了20~30倍的高信噪比.。
*適用于低輝度(0.3cd/m2)，如董光、電漿發(fā)光等微弱光以及光源、顯示器量測(cè)。
搭配功能豐富的專用軟體，可進(jìn)行顯微分光、發(fā)光光源、表面反射率、穿透率、色度、膜厚等光譜量測(cè).
*可架設(shè)于生產(chǎn)線上、真空環(huán)境或嵌入于現(xiàn)有設(shè)備中即時(shí)量測(cè)。

三.膜厚儀:顯微分光膜厚儀 反射式膜厚量測(cè)儀 橢圓偏光膜厚量測(cè)儀(自動(dòng))橢圓偏光膜厚量測(cè)儀(手動(dòng)) 膜厚量測(cè)儀 嵌入式膜厚量測(cè)儀 膜厚光譜分析儀系統(tǒng) 顯微分光膜厚量測(cè)儀
應(yīng)用范圍:
* FPD
·LCD、TFT、OLED(有機(jī)EL)
* 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體·矽半導(dǎo)體、半導(dǎo)體雷射、強(qiáng)誘電、介電常數(shù)材料
* 資料儲(chǔ)存
·DVD、磁頭薄膜、磁性材料
*光學(xué)材料
·濾光片、抗反射膜
*平面顯示器
·液晶顯示器、薄膜電晶體、OLED
* 薄膜
·AR膜
*基它
產(chǎn)品規(guī)格·建筑用材料

型號(hào)
OP-A1
OP-A2 OP-A3
波長(zhǎng)范圍 230~800nm 360~1100nm 900~1600nm膜厚范圍 1nm~35um 7nm~49um 16nm~92um樣品尺寸 Max.200mmx200mmx17mm
點(diǎn)徑φ 5um(反射40倍鏡頭)，改造后可達(dá)到3umtact time Measurement Time 1秒/1點(diǎn)尺寸本體(W555xD537xH559mm)，控制單元(W500xD180xH288mm)750 VA
功用
*1上述式樣是帶有自動(dòng)XY平臺(tái)。*2 release 時(shí)期 是OP-A1在2016年6月末、OP-A2、OP-A3預(yù)定2016年9月*3 膜厚范圍是Si02換算。

產(chǎn)品特點(diǎn):
*膜厚測(cè)量中必要的功能集中于頭部。
*通過(guò)顯微分光高精度測(cè)量**反射率(多層膜厚、光學(xué)常數(shù))1點(diǎn)只需不到1秒的高速tact,
實(shí)現(xiàn)了顯微下廣測(cè)量波長(zhǎng)范圍的光學(xué)系(紫外~近紅外)
*通過(guò)區(qū)域傳感器控制的**構(gòu)造。
搭載可私人定制測(cè)量順序的強(qiáng)大功能.
即便是沒(méi)有經(jīng)驗(yàn)的人也可輕松解析光學(xué)常數(shù)。
四.反射式膜厚量測(cè)儀:各種私人定制對(duì)應(yīng)(固定平臺(tái)，有嵌入式測(cè)試頭式樣)

產(chǎn)品規(guī)格:
型號(hào)
標(biāo)準(zhǔn)型 厚膜專用型
樣品大小*大200mmx200mmx7(厚度)mm
可測(cè)層數(shù)
老寸
膜厚范圍
1nm~40um 0.8um~210um1um~240um 80um~1mm190nm~760nm 230nm~800nm 330nm~1100nm 430nm~970nm 750nm~850nm 900nm~1600nm 1490nm~1590nm
波長(zhǎng)范圍測(cè)試單元
CCD CCD CCD PDA PDAInGaAs InGaAs
膜厚精度
±0.1nm(以NIST認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)樣品為依據(jù))*2
重復(fù)性精度(2.10)
膜厚測(cè)試(Si基板上的SiO膜 100nm未滿:0.1nm*3
100nm以上:0.07%
反射率測(cè)試(Si基板)230nm~250nm:0.8%*4
250nm~800nm:0.4%*4
800nm~1050nm:0.8%*4
測(cè)試光斑*5φ40um<x5倍>、φ20um<x10倍>、φ10um<x20倍>、p6.6um<x30倍>、φp5um<x40倍>對(duì)物鏡頭反射式對(duì)物鏡頭倍數(shù):x10倍、x20倍、x30倍、x40倍
折射式對(duì)物鏡頭(可視):x5倍、x10倍、x20倍
測(cè)試光源D 2(紫外光)、1 2(可見光)、D2 +12(紫外-可見光)
XYZ stage自動(dòng)stage 手動(dòng)stage
X:200mm、Y:250mm、Z:10mmX:200mm、Y:250mm、Z:10mm行程重復(fù)性精度2um<0.5um>
驅(qū)動(dòng)分辨率1um<0.1um>
尺寸·重量
控制單元
481(W)mmx770(H)mmx714(D)mm約96kg 427 (W)mmx770(H)mmx725(D)mm約88kg
自動(dòng)stage 手動(dòng)stage
尺寸·重量300 (W)mmx710(H)mmx450(D)mm約34kg 300(W)mmx380(H)mmx450 (D)mm約18kg
軟件電源 規(guī)格AC100V+10V 750VA AC100V+10V 500VA

手動(dòng)測(cè)試/連續(xù)測(cè)試/制圖測(cè)試(mapping)/測(cè)試與計(jì)算同步功能非線性*小二乘法/波峰波谷解析法/FFT解析法/*適化法基板解析/里面反射補(bǔ)正/各類nk解析模型式**反射率/解析結(jié)果Fitting/折射率n的波長(zhǎng)相關(guān)性/消光系數(shù)k的波長(zhǎng)相關(guān)性3D顯示功能(面內(nèi)膜厚分布、鳥窺圖、等高線、斷面圖)系統(tǒng)維護(hù)材料文件構(gòu)建(database管理)、硬件的各種設(shè)定
測(cè)試
解析
其它
樣品對(duì)焦的數(shù)值顯示功能、自動(dòng)對(duì)焦功能(自動(dòng)stage有此功能)、
內(nèi)部反射補(bǔ)正功能
數(shù)據(jù)處理
數(shù)據(jù)處理臺(tái)式電腦、顯示器、打印機(jī)
*1具體請(qǐng)咨詢本公司。
+2以VLSI公司的標(biāo)準(zhǔn)樣品(100nm Si02/Si)范圍值保證書為依據(jù)。
*3量測(cè)VLSI公司的標(biāo)準(zhǔn)樣品(100nm Si02/Si)同一點(diǎn)位時(shí)之重復(fù)性。(2.1倍0)4具體參照相關(guān)保證書。
*5鏡頭為選配件，具體請(qǐng)咨詢本公司。